通过正在进行的与IBM的项目合作，凸版印刷（Toppan Printing）公司宣布已经开发了用于32nm和28nm节点光学掩模的新的制造工艺。Toppan表示，在日本Asaka制造的光学掩模与IBM在Essex Junction工厂的掩模完全兼容，且得到了IBM的认证。
IBM和Toppan去年宣布在32nm光学掩模工艺和22nm所有的掩模工艺上进行开发合作。Toppan在2005年就开始与IBM合作攻克45nm节点。目前的工作包括支持22nm源掩模最优化（SMO）的专门的掩模，Toppan表示。SMO是将光照源和掩模同时进行最优化，并被看作是实现22nm以及更高节点的沉浸式光刻的可行方法。
Toppan表示通过与IBM合作的技术财产积累，该公司计划在2011年开始SMO光掩模的批量生产。