SEMI的统计数据显示：2007年全球半导体设备总销售额为416.8亿美元，较2006年小幅增长3%；而2008年总销售额预计为410.5亿美元，较2007年减少1.5%。半导体市场的周期变化总是牵动人心，而在这种变化中，中国市场又总令人期待。在SEMICONChina2008召开之际，我们特邀请业内知名半导体设备、测试及材料厂商对未来产业走势和中国市场热点及中国市场策略发表见解，让我们共同分享业界领袖的精彩观点。
ASML中国区总经理刘天兵
研发投入与外包模式是成功因素
亚洲地区仍然是ASML公司2008年业务增长非常重要的一环，而中国也是ASML重要的市场。2007年，ASML全球业务营收接近70%来自亚洲地区，中国的销售也达到了历史新高，这要感谢客户对ASML的支持。
2008年，预计中国的半导体制造商仍会尽力利用二手200毫米工具进一步扩展其低成本产能，同时也将会在最先进的300毫米光刻设备中增加投资。引进先进的技术进行生产将有助于中国的半导体厂商增强竞争力。
在产品方面，ASML针对非关键性的300毫米光刻设备，在TWINSCAN平台上提供了一系列iLine和KrF设备。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系统XT1000，将别具成本优势的KrF技术扩展至以前需要昂贵的ArF技术才能达到的高分辨率领域。利用这个系统，客户能够节省每层的成本达30%。这是因为KrF技术的运作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸没式光刻机能够满足客户为实现当前环境所需的集成度和成本目标而迅速采用先进技术的迫切需要。这些设备让芯片产业能够在硅晶圆上进行更小线宽的成像。芯片厂商需要制造出线宽更小、密度更高的集成电路，以提升芯片设计的功能，为当今的计算和消费电子产品提供动力。
ASML最新的浸没式设备TWINSCANXT1900i能够实现40纳米存储器的量产。自2007年7月首次交付使用以来，ASML已交付了20台XT1900i设备给客户。2007年是浸没式光刻设备量产的开始，预计2008年浸没式设备的净销售额将较2007年翻一番。
ASML成功的另一个因素在于研发方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，这些设备当中高达90%的组件都是由主要的供货商提供，有助于降低客户的成本。而我们的供货商正希望寻找更多的亚洲区制造商以进一步降低成本。
ASML深知光刻技术必须具有成本效益和技术先进性，而在全球范围，客户已在ASML的浸没式设备上加工超过800万片晶圆片以实现功能更强大的芯片和更出色的电子应用。凭借2007年强劲的走势，我们得以开始扩大制造设施，全面增加全球的研发投资。作为各式光刻设备供货商，ASML将会继续努力，协助提高客户的生产力以及设备的成像和套刻性能，让我们在这一要求非常苛刻的行业中，继续为满足客户的需求而努力。
应用材料（中国）公司总经理姚公达
根据客户特点提供针对性产品和服务
应用材料是全球最大的纳米制造技术厂商之一，也是第一家进入中国市场的外资半导体设备供应商。