磁控溅射是一种磁控运行模式的二次溅射。此种技术广泛应用于镀膜设备上，它不仅适用于广泛的镀膜靶材（如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料），而且镀膜时还可大幅度提高膜层的附着力、重复性、致密度和均匀度。
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