据了解，日前尼康宣布推出新一代具有5倍缩小投影倍率的 i-line
步进式光刻机“NSR-2205iL1”，值得一提的是，这也是尼康25年来(从1999年“NSR-2205i14E2”开始接单时计算)首次推出投影倍率降低5倍的新型
i-line 曝光系统。
新款预计2024年夏季上市。而这种光刻机具有缩小投影放大系统，支持功率半导体、通信半导体和MEMS等多种产品。同时和尼康现有的
i-line曝光设备高度兼容，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。
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据悉，NSR-2205iL1具有出色的经济性，无论晶圆材料如何，都可以优化各种半导体器件的生产iolshgb。
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