东芝和IBM将联合开发32nm Bulk CMOS工艺

美国IBM和东芝宣布，已就联合开发32nm Bulk CMOS工艺达成协议。

　　两公司从2005年12月起，一直在位于美国纽约州约克城（Yorktown）和奥尔巴尼（Albany）的研究设施内，共同推进32nm以后的半导体工艺基础研究。根据此次的协议，两公司将以此前的基础研究成果为基础，把联合开发对象拓展至32nm Bulk CMOS工艺上。

　　根据协议，东芝将加入目前IBM及其合作企业共6家公司设在美国纽约州East Fishkill的、32nm Bulk CMOS工艺联合开发联盟中。

　　东芝的齐藤升三（高级常务执行董事半导体公司社长）表示，“东芝继与IBM的联合进行基础研究之后，还将作为全球主要SoC厂商成立的联合开发小组成员，推进32nm Bulk CMOS工艺的开发。同时，将加速东芝Advanced Micro-Electronics Center推进的32nm量产工艺开发，目标是早日实现最尖端元件的量产”。