• 官方微信

    CA800二维码微平台 大视野

  • 工控头条

    CA800二维码工控头条App

当前位置:自动化网>自动化新闻>企业资讯>美国国家标准技术研究所研制出测量新标准

美国国家标准技术研究所研制出测量新标准

发布时间:2005-03-01 来源:中国自动化网 类型:企业资讯 人浏览
关键字:

测量新标准

导  读:

   电脑芯片中的元件有的仅仅只有40纳米,还不到人头发丝的千分之一。这些元件在美国国家标准技术研究所的物理学家、工程师、统计学家和其它有关人员不懈的努力下已经可以被精确的标度和校准,使得电子电路的生产更加现代化。

    美国国家标准技术研究所研究的这种新型测量方法历时四年研究而成,通过测量原子衍射电子产生的间距的算法,算出元件的直径,提供了一种测量嵌入式芯片中的精密线形元件的方法。40纳米至275纳米的植入晶体硅中的元件都可以用此方法进行测量。生产商可以用这种校准方法校准微处理器的电子电路,比如芯片中控制电子流动部分的元器件。

    研究所参与研究的一位研究员Richard Allen说道,在半导体行业中,必须全力以赴才能保持生存。这项研究就是为了测量线性材料而开展的。

   这种新型的参考标准测量物被安置在晶体硅片中,经过同国家标准技术研究所2001年生产的样本进行对比发现,这种新的标准测量物提供了更宽的测量范围,能测量的元器件更细小。测量精度也从原来的14纳米提高为小于2纳米。在这种新的标准测量物问世以前,各个生产公司都是通过各自内部的标准进行测量的。

    在加州圣何塞举办的国际社会光学工程会议上,国家标准技术研究所、SEMATECH公司将正式向社会公布此项成果。  

本文地址:http://www.ca800.com/news/d_1nrusj6oame1c.html

拷贝地址

上一篇:Honeywell推出HPX系列压力传感器

下一篇:Sabritec公司推出可用于潮湿环境下的防水连接器

免责声明:本文仅代表作者个人观点,与中国自动化网无关。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺,请读者仅作参考,并请自行核实相关内容!来源网络如有误有侵权则删。

相关新闻
测量新标准

更多精彩信息看点 请扫描以下二维码