·描述
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L4811-II-2/RZQ双工位立式真空烧结炉是为满足半导体器件和磁性材料行业的大批量、高生产率的要求而设计的一种较先进的烧结设备，主要用于管芯和管座的烧结，也可以做扩散、退火设备用。
主要技术指标：
1工作温度：800℃～1200℃
2单点温度控制精度：±2℃/24h
3恒温区长度：400mm
4最高升温功率：22KW
5升温时间：≤50分钟（室温升至1000℃)
6真空电炉加热功率：1KW
7设备总功率：28KW
8真空室尺寸：φ350mm，高600mm
9真空度：3 x 10-3Pa
10抽真空时间：<1h（注：初始开机时间），连续工作<20min
11主机尺寸：2050 x 1050 x 2700mm（长x宽x高）
12电控箱尺寸：750 x 850 x 1800（mm）
13供电电源：三相380V
14主机重量：2000Kg
高温单道推板式烧结炉、全自动推板烧结炉、全自动双推板式烧结炉、网带式电阻烧结炉、氢气氮气推板烧结炉、箱式气氛保护炉、管式炉、真空碳管炉、真空钼丝烧结炉、真空箱式电阻炉、真空热压炉、真空钨丝烧结炉、真空干燥箱、高压真空炉、高压气淬真空炉、真空加压回火炉、高温真空钎焊炉、真空退火炉、真空热处理加工炉、高压气氛炉、单室卧式高压高流率气淬真空炉、单室立式高压高流率气淬真空炉、双室卧式高压高流率气淬真空炉、双室卧式油淬真空炉、双室卧式油淬气冷真空炉、双室卧式低压渗碳油淬真空炉、叁室卧式油、气淬真空炉、单室卧式回火真空炉、单室卧式退火真空炉、单室立式退火真空炉、真空热处理炉、真空氢气处理炉、真空钎焊炉、全坦溶封炉、立式烧结炉、微控扩散炉、烘焙排蜡炉、陶瓷马弗炉、箱式马弗炉、温度控制仪、真空扩散炉、单管氢气烧结炉、双管氢气烧结炉、消磁炉、真空消磁炉、温度控制调节器、单管卧式烧结炉、双管卧式烧结炉、高温烧结炉、陶瓷氢气烧结炉、单工位真空烧结炉、链带式烧结炉